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主營：直讀光譜儀 ICP光譜儀 ICPMS 碳硫分析儀 氧氮分析儀
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光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求
直讀光譜分析時，一般都采用內(nèi)標法。因內(nèi)標法進行分析時常采用多條分析線和一條內(nèi)標線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標元素。組成的線對要求均稱，就是當激發(fā)光源有波動時，兩條線對的譜線強度雖有變化，但強度比或相對強度能保持不變。
如R表示強度比即
R=I1/I0
I1為分析線的強度，Io為內(nèi)標線強度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關系。
在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標通道有困難，火花直讀光譜儀價格，因此采用一個內(nèi)標線。但有人認為再要提高光電光譜分析的準確度還得采用不同的內(nèi)標線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來解決。
光電法時，有時還用內(nèi)標線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內(nèi)標分別向各自積分電容充電，當內(nèi)標線的積分電容器充電達到某一預定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I，并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數(shù))這個強度I或強度比R就由測光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計時曝光法較為普遍。
直讀光譜儀
清洗激發(fā)臺的內(nèi)表面，主要是避免殘留內(nèi)壁的粉塵放電影響分析結果。通常每激發(fā)100—200次應清理一次。電極與激發(fā)面之間的距離，必須按極距要求調(diào)整好，如果與激發(fā)面的距離太大，試樣不易激發(fā)，如果電極與激發(fā)面的距離太小，曝光時放電電流太大，以至于與儀器各參數(shù)不相匹配，使測定結果與實際結果之間有差異，影響測定的準確性。因此必須將電極與激發(fā)面的距離調(diào)整準確，清洗激發(fā)臺和電極后一定要重視這個問題。
直讀光譜儀保養(yǎng)要素
透鏡
聚光透鏡是樣品被激發(fā)而發(fā)出的光進入分光儀的通道，必須保持鏡面清潔干凈。但長期使用聚光鏡會受到污染，其外表面附著一層茶褐色物質(zhì)，時間越長，沉積
越厚。激發(fā)產(chǎn)生的金屬粉末也會粘附在透鏡的外表面上，降低光的透過率，可使全部元素的光強降低，特別是遠紫外元素C，P，S更是明顯。
聚光透鏡的表面用脫脂棉，蘸上乙醇的混合液少許，從聚光鏡中心向外逐圈擦拭。如污染嚴重可用力多擦幾遍，直到擦去污物再用干棉花球擦去水印即可。
特別應該注意的，聚光鏡是石英材質(zhì)的，不能用硬的物體(能用金屬鑷夾棉花)，以免劃傷透鏡面。
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第7年
